馬旭

 

教授/博士生導(dǎo)師

北京理工大學(xué)光電學(xué)院光電成像與信息工程研究所所長(zhǎng)

“光電成像技術(shù)與系統(tǒng)”教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室, 副主任

 

聯(lián)系方式：maxu@bit.edu.cn

 

研究方向：

金融科技、量化金融、人工智能、數(shù)據(jù)處理、優(yōu)化理論

 

教育背景：

2001/9-2005/07，清華大學(xué)，學(xué)士

2005/07-2009/08，美國(guó)特拉華大學(xué)，博士

2009/08-2010/08，加州大學(xué)伯克利分校，博士后

 

工作經(jīng)歷：

2010/10-2013/07，北京理工大學(xué)，副教授

2013/07至今，北京理工大學(xué)，教授

2014/12至今，北京理工大學(xué)，光電學(xué)院光電成像與信息工程研究所所長(zhǎng)

2018/11至今，北京理工大學(xué)，光電成像技術(shù)與系統(tǒng)教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室副主任

 

主要科研成果：

論文：

1.深度學(xué)習(xí)SCI論文：Model-driven convolution neural network for inverse lithography, Optics Express（2018）

2.機(jī)器學(xué)習(xí)SCI論文：A fast and manufacture-friendly optical proximity correction based on machine learning, Microelectronic Engineering (2016)

3.機(jī)器學(xué)習(xí)SCI論文：Fast pixel-based optical proximity correction based on nonparametric kernel regression, JM3 (2014)

4.壓縮信號(hào)處理SCI論文：Lithographic source optimization based on adaptive projection compressive sensing, Optics Express（2018）

5.信息理論SCI論文：Information theoretical approaches in computational lithography, Optics Express（2018）

6.信息理論SCI論文：Information theoretical aspects in coherent optical lithography systems, Optics Express（2017）

 

著作：

英文專著《Computational Lithography》 Wiley & Sons出版社（2010）

 

學(xué)術(shù)團(tuán)體任職：

中國(guó)微米納米技術(shù)學(xué)會(huì)微納執(zhí)行器與微系統(tǒng)分會(huì)理事

中國(guó)光學(xué)學(xué)會(huì)光電專委會(huì)委員/光機(jī)電分會(huì)理事

電氣電子工程師學(xué)會(huì)高級(jí)會(huì)員（IEEE）

美國(guó)光學(xué)學(xué)會(huì)高級(jí)會(huì)員（OSA）

國(guó)際光學(xué)和光電子學(xué)會(huì)高級(jí)會(huì)員（SPIE）

中國(guó)微米納米技術(shù)學(xué)會(huì)高級(jí)會(huì)員